| dc.contributor.author | Darmasetiawan, Hanedi | |
| dc.contributor.author | Irzaman | |
| dc.date.accessioned | 2010-04-21T02:16:36Z | |
| dc.date.available | 2010-04-21T02:16:36Z | |
| dc.date.issued | 2003 | |
| dc.identifier.uri | http://repository.ipb.ac.id/handle/123456789/5843 | |
| dc.description.abstract | Film tipis tantalum oksida telah berhasil ditumbuhkan pada substrat Si (100) dengan proses penumbuhan larutan kimia pada 0,5 M larutan Ta2O5 dan dilanjutkan dengan spin coating pada kecepatan putar 2000 dan 3000 rpm selama 30 detik. Film yang ditumbuhkan dilanjutkan dengan proses pemanggangan (annealing ) pada 900oC selama 15 jam. Bentuk kristal dan orientasi film Ta2O5 secara sistematik diuji dengan bantuan difraksi sinar-X. | id |
| dc.publisher | IPB (Bogor Agricultural University) | |
| dc.subject | Bogor Agricultural University (IPB) | id |
| dc.subject | Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5) | id |
| dc.title | Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5) yang Ditumbuhkan dengan Metode Spin Coating | id |
