Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5) yang Ditumbuhkan dengan Metode Spin Coating

Abstract

Film tipis tantalum oksida telah berhasil ditumbuhkan pada substrat Si (100) dengan proses penumbuhan larutan kimia pada 0,5 M larutan Ta2O5 dan dilanjutkan dengan spin coating pada kecepatan putar 2000 dan 3000 rpm selama 30 detik. Film yang ditumbuhkan dilanjutkan dengan proses pemanggangan (annealing ) pada 900oC selama 15 jam. Bentuk kristal dan orientasi film Ta2O5 secara sistematik diuji dengan bantuan difraksi sinar-X.