Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5) yang Ditumbuhkan dengan Metode Spin Coating

Please use this identifier to cite or link to this item: http://repository.ipb.ac.id/handle/123456789/5843

Title:	Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5) yang Ditumbuhkan dengan Metode Spin Coating
Authors:	Darmasetiawan, Hanedi Irzaman
Keywords:	Bogor Agricultural University (IPB) Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5)
Issue Date:	2003
Publisher:	IPB (Bogor Agricultural University)
Abstract:	Film tipis tantalum oksida telah berhasil ditumbuhkan pada substrat Si (100) dengan proses penumbuhan larutan kimia pada 0,5 M larutan Ta2O5 dan dilanjutkan dengan spin coating pada kecepatan putar 2000 dan 3000 rpm selama 30 detik. Film yang ditumbuhkan dilanjutkan dengan proses pemanggangan (annealing ) pada 900oC selama 15 jam. Bentuk kristal dan orientasi film Ta2O5 secara sistematik diuji dengan bantuan difraksi sinar-X.
URI:	http://repository.ipb.ac.id/handle/123456789/5843
Appears in Collections:	Basic Research (Penelitian Dasar)

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
2003hi_hanedi.pdf	Ringkasan	98.84 kB	Adobe PDF	View/Open
2003hi_hanedi.doc	Ringkasan	13.25 kB	Microsoft Word	View/Open

DSpace JSPUI