Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5) yang Ditumbuhkan dengan Metode Spin Coating

Please use this identifier to cite or link to this item: http://repository.ipb.ac.id/handle/123456789/5843

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	Darmasetiawan, Hanedi
dc.contributor.author	Irzaman
dc.date.accessioned	2010-04-21T02:16:36Z
dc.date.available	2010-04-21T02:16:36Z
dc.date.issued	2003
dc.identifier.uri	http://repository.ipb.ac.id/handle/123456789/5843
dc.description.abstract	Film tipis tantalum oksida telah berhasil ditumbuhkan pada substrat Si (100) dengan proses penumbuhan larutan kimia pada 0,5 M larutan Ta2O5 dan dilanjutkan dengan spin coating pada kecepatan putar 2000 dan 3000 rpm selama 30 detik. Film yang ditumbuhkan dilanjutkan dengan proses pemanggangan (annealing ) pada 900oC selama 15 jam. Bentuk kristal dan orientasi film Ta2O5 secara sistematik diuji dengan bantuan difraksi sinar-X.	id
dc.publisher	IPB (Bogor Agricultural University)
dc.subject	Bogor Agricultural University (IPB)	id
dc.subject	Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5)	id
dc.title	Pengaruh Suhu Annealing pada Film Tipis Tantalum Oksida (Ta2o5) yang Ditumbuhkan dengan Metode Spin Coating	id
Appears in Collections:	Basic Research (Penelitian Dasar)

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
2003hi_hanedi.pdf	Ringkasan	98.84 kB	Adobe PDF	View/Open
2003hi_hanedi.doc	Ringkasan	13.25 kB	Microsoft Word	View/Open

DSpace JSPUI