Pembuatan Film Tipis Lithium Niobat (LiNbO3) Menggunakan Metode Chemical Solution Deposition (CSD) dengan Variasi Kecepatan Putar (Rpm).

Abstract

Film tipis merupakan salah satu aspek yang mendapat perhatian sangat besar dalam bidang material, karena film tipis merupakan material menarik yang memiliki sifat optik yang sangat tergantung pada konstanta dielektrik, indeks bias, dan energi gap. Lithium Niobat (LiNbO3 ) dapat digunakan sebagai pelapis pada film tipis karena memiliki sifat piezoelektrik, electrooptical, pyroelectrical dan photorefractive yang sangat baik. Film tipis Lithium Niobat (LiNbO3 ) ditumbuhkan menggunakan metode Chemical Solution Deposition (CSD) dengan variasi kecepatan 3500 rpm, 5000 rpm, 6500 rpm, dan 8000 rpm. Metode ini memiliki keunggulan dapat mengontrol stokiometri film tipis dengan kualitas yang baik, prosedur yang mudah dan membutukan biaya yang relatif murah. Energi band gap yang dihasilkan dari film tipis Lithium Niobat (LiNbO3) berkisar antara rentang 2.1 eV – 2.8 eV dengan indeks bias berada pada rentang 2.18-3.2. Film tipis LiNbO3 memiliki parameter kisi a=b=5.54Ǻ dan c = 16.35 Ǻ. Struktur morfologi film tipis adalah permukaan yang homogen dan ukuran kristal berada pada rentang 0.417 μm – 0.680 μm.