Studi sifat elektrokromik lapisan tipis TIO2 hasil deposisi dengan metode electron beam evaporation

Abstract

Penelitian di bidang material khususnya material elektrokromik mengalami peningkatan yang cukup besar, terlihat dari banyaknya jurnal ilmiah dm hak paten yang diterbitkan dalam satu dekade terakhir dan terutama pada upaya kornersialisasi piranti elektrokromik yang dihasilkan. Beberapa oksida dari golongan logam transisi dan material organik rnenunjukkan sifat elekrrokrornik, Ti02 merupakan salah satu oksida logam yang menunjukkan sifat ini. Pada penelitian ini lapisan Ti02 dideposisi pada substrat IT0 (Indium Tin Oxide) dengan menggunakan metode Electron Beam Evaporation dan sampel dibuat bervariasi berdasarkan ketebalannya yaitu 50 nm dm 100 nm, kedua sampel di annealing pada suhu 450 O C selama 1 jam. Berdasarkan pengujian dengan menggunakan peralatan difiaksi sinar x didapatkan bahwa lapisan TiOz memiliki struktur amorf. Dari hasil penelitian didapatkan bahwa lapisan TiOz ketebalan 100 nm menunjuklckan respon elektrokromik terbaik, hal ini ditunjukkan oieh warna biru yang muncul pada fapisan pada saat diberikan tegangan -3 V, dengan nilai energi gap sebesar 3,3 eV. Respon elektrokromik terjadi secara revesibel, terlihat dari wma lapisan yang memudar ketika polaritas tegangan dibdik. Fraksi reversibifitas terbaik terjadi pada sel assembly Ti02 ketebalan 100 nm dengan nilai sebesat 96,s %. Respon elektrokromik dihasilkan oleh penyisipan elektron dan kation secara simultan, khususnya kation dari logam aIkali Watau @ ke dalam materid elektrokromik dan efektron terakumulasi pada pita konduksi yang menyebabkan perubahan sifat absorpsi pada lapisan sehingga dapat rnengurangi nilai transmisi cahaya yang melewati sistem ini. Sifat elekhokromik yang tejadi dapat diatur dengan pemberian variasi dan polaritas tegangan.