Pembuatan Dan Karakterisasi Lapisan Tipis Ta2O5 Dengan Teknik Oksidasi Anodik

Abstract

Kemajuan teknologi saat ini berlangsung begitu cepat dalam segala bidang. sehingga pengembangan teknologi yang lebih maju, tepat dan efisien menjadi sangat penting. Salah satu usaha yang bisa dilakukan adalah dengan membuat paduan logam yang dapat memperkuat bahan substratnya. Proses tersebut dapat dilakllkan dengan me1apisi logam (substrat) dengan material lain untuk meningkatkan fungsinya dan memberikan karakteristik bam yang sarna sekali berbeda dengan bahan substratnya. yang disebut lapisan tipis <thin film). Lapisan tipis (thin film) banyak dipakai dalam bidang elektronik. seperti kapasitor karena TalOs memiliki die1ektrik yang cukup tinggi yaitu 2.5. Pembuatan Ta20s yang banyak digunakan adalah dengan teknik anodisasi yaitu denglln menggunakan prinsip e1ektrolisa. Teknik anodisai ini memiliki kelebihan diantaranya adalah cara pembuatannya sangat sederhana. basil oksida yang djbasjlkan lebih rapat, rata. porositas keeit dan homogen.