Sintesis TiO2 terdoping N dan F pada suhu rendah untuk aplikasi fotokatalitik

Abstract

Untuk menunjang pemanfaatan TiO2 sebagai fotokatalis yang efisien, modifikasi sifat-sifat elektronik seperti sela pita (band gap) dari TiO2 sangatlah penting, sehingga TiO2 yang awalnya tidak aktif sinar tampak menjadi aktif sinar tampak. Pada penelitian ini, TiO2 terdoping N dan F telah disintesis. Prekursor yang digunakan adalah TiCl4, sumber dopan N adalah urea dan sumber dopan F adalah NH4F. Uji aktivitas fotokatalitik memperlihatkan bahwa TiO2-N dengan dopan urea 1 M memiliki persen degradasi terbesar 78%, sedangkan TiO2-F dengan dopan NH4F 2 M memiliki persen degradasi terbesar 96%. Analisis difraksi sinar X (XRD) memperlihatkan telah terbentuk TiO2 terdoping N dan F. Kristalinitas TiO2-F dan TiO2-N berturut-turut sebesar 95% dan 79%. Nilai sela pita menggunakan analisis DRS Uv-Vis TiO2-F, TiO2-N dan TiO2 Komersial P25 degussa berturut-turut sebesar 3.150 eV, 3.137 eV, dan 3.336 eV. Analisis FTIR memperlihatkan keberhasilan sintesis TiO2.