Karakteristik fotoelektrokimia film tipis WO3 yang disintesis dengan metode sol-gel

Abstract

Film tipis WO3 telah berhasil disintesis diatas substrat kaca ITO dengan metode sol-gel. Film tipis WO3 dilakukan dengan 5 kali pelapisan menggunakan proses spin coating dengan kecepatan putar 3000 rpm selama 30 detik. Setiap pelapisan dipanaskan pada suhu 200 oC kemudian di-annealing dengan variasi suhu 200 oC, 400 oC, dan 600 oC. Penelitian ini bertujuan untuk mendapatkan kondisi optimal pengaruh suhu annealing terhadap karakteristik fotoelektrokimia film tipis WO3. Karakterisasi pada XRD, SEM, sifat optik dan sifat fotoelektrokimia dengan menggunakan larutan elektrolit KI konsentrasi 0.5 M. Hasil menunjukkan bahwa peningkatan suhu annealing mengakibatkan penambahan nilai parameter kisi dan struktur yang terbentuk untuk semua film tipis yaitu monoklinik. Morfologi film tipis WO3 semakin halus dengan peningkatan suhu. Selain itu diketahui bahwa film tipis WO3 dengan suhu pemanasan 400 oC memiliki ukuran partikel paling besar dibandingkan dengan suhu 200 oC, dan 600 oC. Hasil pengujian fotoelektrokimia menunjukkan nilai yang semakin meningkat pada kurva I-V dan efisiensi konversi seiring dengan peningkatan suhu annealing.